asml 文章 最新資訊
ASML研發(fā)5納米分辨率Hyper NA光刻機
- 據(jù)外媒報道，ASML正與蔡司（Carl Zeiss）合作，啟動研發(fā)分辨率可達5納米的Hyper NA光刻機設備。ASML技術執(zhí)行副總裁Jos Benschop表示，這種新型光刻機將滿足2035年及之后的芯片制造需求。目前，ASML剛剛開始出貨最先進的光刻機，其單次曝光分辨率可達8納米，相比舊款設備需要多次曝光才能實現(xiàn)類似效果。Benschop還提到，ASML正與蔡司進行設計研究，目標是開發(fā)數(shù)值孔徑（NA）達到0.7或更高的系統(tǒng)。數(shù)值孔徑是衡量光學系統(tǒng)聚焦能力的重要指標，直接影響光刻分辨率。NA越高，光波長
- 關鍵字： ASML 5納米 Hyper NA 光刻機
ASML杯光刻「芯 」勢力知識挑戰(zhàn)賽正式啟動
- 這是一場追光人的技術狂歡也是一次深入納米芯球的探索之旅我們發(fā)出光刻英雄帖，集結菁英光刻「芯」勢力與ASML共尋技術之美【賽事介紹】ASML光刻「芯」勢力知識挑戰(zhàn)賽由全球半導體行業(yè)領先供應商ASML發(fā)起，是一項面向中國半導體人才與科技愛好者的科普賽事。依托ASML在光刻領域的技術積累與行業(yè)洞察，賽事致力于為參賽者打造一個深度探索光刻技術的知識競技窗口，同時培養(yǎng)優(yōu)秀科技「芯」勢力，共同推動摩爾定律演進。本次挑戰(zhàn)賽聚焦光刻技術教育普及，通過涵蓋光學、物理學知識的專業(yè)試題帶領參賽者深入了解光刻機、計算光刻、量測等
- 關鍵字： ASML 光刻
臺積電保持觀望 ASML最新EUV機臺只賣了5臺
- 荷蘭阿斯麥（ASML）全新機臺卻讓臺積電望之卻步！ 英媒指出，盡管阿斯麥最新一代的高數(shù)值孔徑（High-NA）極紫外光（EUV）微影設備性能強大，但因這款機臺單價高達4億美元，臺積電高層表示，目前「找不到非用不可的理由」，因此暫時沒有計畫在A14及其后續(xù)制程中導入。路透27日報導，這款先進機臺價格逼近4億美元，幾乎是晶圓廠現(xiàn)有最昂貴設備的兩倍。 目前，各家芯片制造商正在仔細評估，這款設備在曝光速度以及分辨率上面的提升，是否真的符合如此高昂的價格。臺積電技術開發(fā)資深副總經(jīng)理張曉強表示，即便不使用High-N
- 關鍵字： 臺積電 ASML EUV 機臺
光罩圖形化：電子束光刻發(fā)展之路
- ASML 的光學投影光刻機的熱度經(jīng)久不衰，伴隨著 High NA EUV 光刻機和國產(chǎn)光刻機概念引發(fā)的關注，各種行業(yè)研報層出不窮。相比之下，電子束光刻的賽道就顯得冷清了。除了常規(guī)的科研方向的應用外，小規(guī)模試產(chǎn)，量子芯片也是電子束光刻機的主要應用。而光罩廠中的光罩圖形化，則是當下電子束光刻最重要的用途，其重要性絲毫不亞于 ASML 的各型光刻設備。電子束與光：殊途同歸電子本身所具有的波粒二象性決定了，更高的能量下，其具有的更高的頻率能夠等效于更小的波長。當電子束的能量為 100keV 時
- 關鍵字： ?ASML
ASML計劃在荷蘭大規(guī)模擴張，助力EUV設備交付
- 據(jù)荷蘭媒體報道，ASML計劃在2028年前將其員工遷入位于荷蘭埃因霍溫附近的全新Brainport產(chǎn)業(yè)園區(qū)。這一消息是在ASML與埃因霍溫市政府官員共同介紹城市發(fā)展計劃初步草案時透露的。這一擴張計劃引發(fā)了全球晶圓制造行業(yè)的廣泛關注。據(jù)Tom's Hardware報道，臺積電、英特爾和三星電子等半導體巨頭或將從中受益。ASML的擴張如果能按計劃推進，將有助于滿足全球對極紫外光（EUV）光刻設備的迫切需求，從而加速先進制程的開發(fā)與應用。Brainport產(chǎn)業(yè)園區(qū)的擴張計劃大約在一年前首次公開。據(jù)荷蘭消
- 關鍵字： EUV 光刻機 ASML
ASML發(fā)布2025年第一季度財報
- 阿斯麥（ASML）近日發(fā)布2025年第一季度財報。2025年第一季度，ASML實現(xiàn)凈銷售額77億歐元，毛利率為54%，凈利潤達24億歐元。第一季度的新增訂單金額為39億歐元2，其中12億歐元為EUV光刻機訂單。ASML預計2025年第二季度凈銷售額在72億至77億歐元之間，毛利率介于50%至53%3；對2025年展望保持不變，預計全年凈銷售額在300億至350億歐元之間，毛利率介于51%至53%。（除非特別說明，數(shù)字均以百萬歐元為單位）2024年第四季度2025年第一季度凈銷售額9,2637,742其中裝
- 關鍵字： ASML 2025年第一季度財報
前英特爾CEO加入光刻技術初創(chuàng)公司
- 近日，英特爾前CEO帕特·基辛格（Pat Gelsinger）宣布加入xLight，擔任董事會執(zhí)行董事長，xLight官網(wǎng)上個月也公布了這一消息。xLight是一家面向極紫外（EUV）光刻機開發(fā)基于直線電子加速器的自由電子激光（FEL）技術的EUV光源系統(tǒng)的初創(chuàng)公司。xLight雖然規(guī)模很小，但其團隊在光刻和加速器技術領域擁有多年的經(jīng)驗，不僅擁有來自斯坦福直線加速器和其他地方的粒子加速器資深研究人士，其首席科學家Gennady Stupakov博士還是2024年IEEE核能和等離子體科學學會粒子加速器科學
- 關鍵字： 英特爾 EUV ASML xLight LPP FEL 光刻
ASML計劃在日本擴增五倍EUV芯片工具員工
- 近日，荷蘭半導體設備制造商ASML宣布，計劃在日本將其先進的極紫外光（EUV）芯片工具的員工人數(shù)擴增五倍，這一舉措旨在加強其在全球半導體市場的競爭力。隨著全球對高性能芯片需求的激增，ASML的這一決策不僅能提升其在日本的業(yè)務運營，也將進一步推動當?shù)匕雽w產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。ASML在全球的影響力不斷增強，特別是在EUV技術方面，該技術被認為是制造下一代高性能芯片的關鍵。隨著日本在半導體制造領域的持續(xù)投入，ASML的擴張計劃將有助于促進當?shù)厝瞬诺呐囵B(yǎng)及技術的進步。此外，ASML的擴展計劃正值日本其他半導體公司如Ra
- 關鍵字： ASML EUV 芯片工具
ASML、imec簽署五年期戰(zhàn)略合作協(xié)議
- 自ASML官網(wǎng)獲悉，當?shù)貢r間3月11日，ASML宣布同比利時微電子研究中心（imec）簽署新的戰(zhàn)略合作伙伴協(xié)議，重點關注半導體研究與可持續(xù)創(chuàng)新。據(jù)悉，該協(xié)議為期五年，旨在開發(fā)推動半導體行業(yè)發(fā)展的解決方案，并制定以可持續(xù)創(chuàng)新為重點的計劃。此次合作涵蓋了阿斯麥的全部產(chǎn)品組合，這些設備將導入由imec牽頭建設的后2nm制程前沿節(jié)點SoC中試線NanoIC，研發(fā)的重點領域還將包括硅光子學、存儲器和先進封裝，為未來基于半導體的人工智能應用在不同市場提供全棧創(chuàng)新。
- 關鍵字： ASML IMEC 芯片制程 2nm
最新全球半導體設備廠商排名Top10
- 根據(jù)CINNOResearch最新發(fā)布的全球半導體設備行業(yè)研究報告顯示，2024年全球半導體設備商半導體營收業(yè)務Top10營收合計超1100億美元，同比增長約10%。2024年全球半導體設備廠商市場規(guī)模Top10與2023年的Top10設備商相同，榜單前五名連續(xù)兩年保持穩(wěn)定：荷蘭公司ASML全年營收超300億美元，排名首位；美國公司應用材料（AMAT）2024年營收約250億美元，排名第二；美國公司泛林（LAM）、日本公司Tokyo Electron（TEL）、美國公司科磊（KLA）分別排名第三、第四和第
- 關鍵字： 半導體設備 ASML 應用材料 北方華創(chuàng) 中微公司 泛林
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